根据Jawaharlal Nehru铝研究开发和设计中心（JNARDDC）的最新报告，那格浦尔发明了一种在实验室规模生产3N纯度氧化铝（99.9％）的低成本工艺。
重点是在尽可能低的温度下制备3N纯纳米氧化铝的α相。高纯度纳米氧化铝在高压钠灯，单晶材料，高强度陶瓷工具和磁带研磨剂等半透明灯管中得到了广泛的应用。
该项目由新德里科学技术部（DST）赞助，发现低摩擦，高耐磨性，热和电绝缘能力以及广泛的化学相容性等特性使高纯度氧化铝成为军事和工业用途中的有用选择。航空航天应用，发动机组件，隔热罩，电绝缘体，泵和阀组件以及卫星和雷达电子系统。
该项目成功的结果是经过一组科学家的不懈努力，他们开发了低成本制备适合实验室规模的发光二极管（LED）和半导体应用的3N纯氧化铝的工艺知识。
根据该报告，研究人员和团队的Priyanka Nayyar博士在JNARDDC主任Anupam Agnihotri博士的明智指导下进行了工作，以使该项目在实验室规模上取得成功。
